História GEW

A história da GEW começa em 1991. A GEW projeta e fabrica sistemas de cura de arco de mercúrio e LED UV para as indústrias de impressão, revestimento e conversão. Com sede no Reino Unido e subsidiárias na Alemanha e nos Estados Unidos, a empresa hoje atende uma base internacional de clientes com vendas, serviços e suporte disponíveis em todo o mundo.

A GEW foi formada em março de 1991 por Gillian e Malcolm Rae, para fornecer ao mercado de rótulos de bobina estreita sistemas compactos e eficientes de cura UV refrigerados a ar.

Hoje, o equipamento GEW é usado em muitas das máquinas de impressão mais avançadas do mundo. Nossos produtos são altamente considerados por seu padrão de engenharia, confiabilidade e desempenho e nossa abordagem rápida, amigável e flexível manteve os clientes fiéis a nós por muitos anos. Como prova disso, nosso primeiro cliente ainda está comprando de nós hoje.


GEW Produtos

A GEW produz uma variedade de lâmpadas UV e produtos LED juntamente com todos os componentes
periféricos e integração, para uma ampla gama de aplicações de cura e irradiação.

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A GEW possui uma variedade de produtos de lâmpadas UV e LED para atender a quase todas as necessidades de impressão ou conversão.
Todos os produtos podem ser integrados perfeitamente pela GEW para caber em sua máquina.

Sistemas de cura LED UV

GEW sistemas de cura LED UV usam diodos emissores de luz ultravioleta (LEDs UV) como fonte de luz primária.
Dezenas ou mesmo centenas de LEDs UV são construídos em placas de circuito altamente especializadas da GEW – chamadas de módulos de LED. Múltiplos módulos de LED são montados juntos para criar uma matriz de luz que pode variar de 15 cm a 250 cm de comprimento. A GEW oferece diferentes fatores de forma de produtos LED UV, níveis de potência e faixas de comprimento de onda para satisfazer muitos requisitos de aplicação diferentes.

Saiba Mais clicando aqui – www.gewuv.pt/

Sistemas de cura por lâmpadas UV

GEW sistemas de cura por lâmpadas UV usam lâmpadas de vapor de mercúrio de média pressão como fonte de luz UV.
Dependendo do nível de potência, comprimento da lâmpada e fator de forma necessário, a GEW possui vários sistemas de lâmpadas com diferentes métodos de resfriamento para atender a uma vasta gama de aplicações de irradiação UV.

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Sistemas Excímeros

Os sistemas de lâmpadas ExciRay da GEW utilizam lâmpadas de descarga de barreira dielétrica (DBD) para produzir radiação ultravioleta a vácuo quase monocromática, normalmente a 172 nm. Essa radiação é comumente usada para matificação de revestimentos de superfície, modificação da tensão superficial para melhor adesão ou limpeza de superfícies para semicondutores e indústrias médicas.

Unidades de laboratório UV

A GEW projeta e fabrica equipamentos de laboratório UV para uso em pesquisa e desenvolvimento e instalações de imprensa.
As variantes de lâmpadas LED e de arco de mercúrio estão disponíveis imediatamente no estoque, enquanto as unidades de laboratório personalizadas podem ser fabricadas para atender a uma ampla gama de requisitos usando qualquer combinação dos sistemas UV de produção da GEW.

ArcLED

Um dos principais benefícios dos sistemas LED UV e arco de mercúrio da GEW é a capacidade ArcLED.
O sistema de energia do ArcLED permite que a impressora alterne perfeitamente entre as tecnologias
de arco de mercúrio e a tecnologia LED.

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CONFIRA MAIS VÍDEOS SOBRE A GEW:

• Etiqueta Phenix – Web estreita 
• Etygraf – Web estreita
• Likora – NUVA2
• Hagg Press – alimentado por folha
AeroLED – Eperon 

Mais informações, consulte o site da fabricante: A GEW

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